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濺鍍沈積氮化鉭(Ta[feaf]N/TaN)薄膜的特性與對銅的擴散阻礙性能探討
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資料識別:
A00037105
資料類型:
期刊論文
著作者:
許振聲(Hsu, C. S.) 黃獻慶(Huang, S. C.) 府玠辰(Fu, C. C.) 莊鑫堅(Chuang, H. C.) 陳錦山(Chen, G. S.)
主題與關鍵字:
單層Ta[feaf]N 單層TaN 複層Ta[feaf]N/TaN 阻礙層薄膜 銅
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:13:4 民89.11
頁次:頁4-16
日期:
20001100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
許振聲(Hsu, C. S.) 黃獻慶(Huang, S. C.) 府玠辰(Fu, C. C.) 莊鑫堅(Chuang, H. C.) 陳錦山(Chen, G. S.)(20001100)。[濺鍍沈積氮化鉭(Ta[feaf]N/TaN)薄膜的特性與對銅的擴散阻礙性能探討]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/6d/17.html(2024/09/13瀏覽)。
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