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高密度細線化需求下的銅化學蝕刻製程
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後設資料
資料識別:
A00032164
資料類型:
期刊論文
著作者:
王宗雄
主題與關鍵字:
化學蝕刻 蝕刻因子 蝕刻液 高密度互連基板 顯影 Chemical etching Etching factor Etching solution High density interconnect HDI Developing
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:168 民89.12
頁次:頁161-170
日期:
20001200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
王宗雄(20001200)。[高密度細線化需求下的銅化學蝕刻製程]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/5b/d6.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/5b/d6.html
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