高均勻蝕孔尺寸要求之網罩蝕刻技術
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- 資料識別：
- A00032162
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 邱正茂 李淑幸 林兆焄 賴詩文
- 主題與關鍵字：
- 網罩 光阻塗佈 曝光 背塗 蝕刻 Shadow mask Photoresist coating Exposure Back coating Etching
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:168 民89.12
- 頁次:頁147-153
- 日期：
- 20001200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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