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應用於大面積微波電漿源之輻射共振腔原理探討
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資料識別:
A00031587
資料類型:
期刊論文
著作者:
洪健倫(Hung, C. L.) 張存續(Chang, T. H.) 朱國瑞(Chu, K. R.) 戴涪(Tai, F.) 呂康威(Lu, K. W.)
主題與關鍵字:
電子磁旋共振微波電漿源 微波共振腔 品質因子 HFSS計算 Microwave resonant cavity Electron cyclotron resonance Plasma Coupling coefficient Quality factor HFSS simulation
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:13:3 民89.09
頁次:頁55-61
日期:
20000900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
洪健倫(Hung, C. L.) 張存續(Chang, T. H.) 朱國瑞(Chu, K. R.) 戴涪(Tai, F.) 呂康威(Lu, K. W.)(20000900)。[應用於大面積微波電漿源之輻射共振腔原理探討]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/59/95.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/59/95.html
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