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以射頻磁控濺鍍法製備高介電鈦酸鍶鋇薄膜應用於動態隨機存取記憶體之研究
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資料識別:
A00031582
資料類型:
期刊論文
著作者:
李建興(Lee, J. S.) 魏慕慈(Wei, M. C.) 張守進(Chang, S. J.)
主題與關鍵字:
射頻磁控濺鍍法 高介電鈦酸鍶鋇薄膜 動態隨機存取記憶體 高介電係數材質 電容器介電質
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:13:3 民89.09
頁次:頁19-25
日期:
20000900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
李建興(Lee, J. S.) 魏慕慈(Wei, M. C.) 張守進(Chang, S. J.)(20000900)。[以射頻磁控濺鍍法製備高介電鈦酸鍶鋇薄膜應用於動態隨機存取記憶體之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/59/90.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/59/90.html
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