Fabricating δ-doped Layers by Ultra-High Vacuum Chemical-Vapor Deposition and Its Applications in FET

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資料識別:
A00031580
資料類型:
期刊論文
著作者:
吳三連(Wu, S. L.) 簡培偉(Chien, P. W.) 張守進(Chang, S. J.)
主題與關鍵字:
高平面摻雜技術 場效電晶體 元件技術 超高真空化學汽相沈積法
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:13:3 民89.09
頁次:頁4-11
日期:
20000900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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