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半導體製程設備中潔淨技術之研討--如何減少晶圓上附著微粒子,以利提高良率
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後設資料
資料識別:
A00028324
資料類型:
期刊論文
著作者:
前田和夫
主題與關鍵字:
半導體製程設備 潔淨技術 晶圓
描述:
來源期刊:電子月刊
卷期:6:12=65 民89.12
頁次:頁148-153
貢獻者:
李文錦 郭肇傑
日期:
20001200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
前田和夫(20001200)。[半導體製程設備中潔淨技術之研討--如何減少晶圓上附著微粒子,以利提高良率]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/48/e7.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/48/e7.html
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