Relieving the Residual Stress on Machined Silicon Wafers--A Comparison between Rapid Thermal Annealing (RTA) and Chemical Etching Processes
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- 資料識別：
- A00027984
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 趙崇禮(Chao， C. L.) 馬廣仁(Ma， K. J.) 張毅(Chang， Y.) 林宏彝(Lin， H. Y.)
- 主題與關鍵字：
- 快速退火法 化學腐蝕法 殘留應力 Rapid thermal annealing RTA Chemical etching techniques CE Residual stress
- 描述：
- 來源期刊:中正嶺學報
- 卷期:29:1 民89.11
- 頁次:頁63-68
- 日期：
- 20001100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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