Global Model of Plasma Chemistry in a High Density Argon/Hydrogen Discharge
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- 資料識別：
- A00022140
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 魏大欽(Wei， Ta-chin) 楊智超(Yang， Chih-chao) 鄭文正(Cheng， Wen-cheng)
- 主題與關鍵字：
- Plasma Hydrogen Argon ECR Modeling 高密度氬氣/氫氣電漿反應器
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
- 卷期:31:5 民89.09
- 頁次:頁477-485
- 日期：
- 20000900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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