以傅氏紅外線光譜儀對矽基元件Si-SiO[feaf]介面矽氧層範圍之辨識

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A00021718
資料類型:
期刊論文
著作者:
蔡震寰(Tsai, J. H.) 余安錠(Yu, A. T.)
主題與關鍵字:
橢圓分析儀 傅氏紅外線光譜儀 10%氫氟酸水溶液 Si-SiO[feaf]介面 矽氧矽鍵結反對稱伸張運動 Ellipsometer FTIR HF(10%) solution Si-SiO[feaf]interface Si-O-Si antisymmetric stretching mode
描述:
來源期刊:筧橋學報
卷期:7 民89.09
頁次:頁163-180
日期:
20000900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

鉻磷酸鹽處理麻竹之保綠機制
現代中國畫的傳統與變革
中國古代飲食名著(上)
試介李勤岸、胡民祥、莊柏林、路寒袖、...
南科345kV地下電纜線路之規劃設計...
女性荷爾蒙療法與中藥科學中藥處方併用...