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MOCVD在Sapphire上成長GaN時緩衝層之任務
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後設資料
資料識別:
A00013239
資料類型:
期刊論文
著作者:
史光國
主題與關鍵字:
緩衝層 材料 半導體材料 AIN GaN MOCVD
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:161 民89.05
頁次:頁128-135
日期:
20000500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
史光國(20000500)。[MOCVD在Sapphire上成長GaN時緩衝層之任務]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/0a/08.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/0a/08.html
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