化學機械拋光製程技術
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- 資料識別：
- A00010493
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 林士傑 吳孟隆
- 主題與關鍵字：
- 化學機械拋光 矽晶圓 平坦化 CMP Si wafer Planalization
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:206 民89.05
- 頁次:頁146-151
- 日期：
- 20000500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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