Properties and Chemical-Mechanical Polishing Characteristics of Low Dielectric Constant Polymer Films: PAE-2 and Flare 2.0
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- 資料識別：
- A00009959
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳文章(Chen， Wen-chang) 顏誠廷(Yen， Cheng Tyng) 戴寶通(Dai， Bau-tong) 蔡明蒔(Tsai， Ming-shih)
- 主題與關鍵字：
- CMP Low k polymers Slurry Abrasive Surfactant 低介電常數高分子 薄膜性質 化學機械研磨
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
- 卷期:31:3 民89.05
- 頁次:頁253-260
- 日期：
- 20000500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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