氨氣電漿氮化處理對低介電常數HSQ薄膜/銅導線結構之電特性影響

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資料識別:
A01005002
資料類型:
期刊論文
著作者:
劉柏村 張鼎張 施敏
主題與關鍵字:
氨氣電漿 氮化處理 低介電常數 HSQ薄膜
描述:
來源期刊:國科會國家毫微米元件實驗室通訊
卷期:8:1 民90.02
頁次:頁7-12
日期:
20010200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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