從活性離子蝕刻所產生的破壞和污染對低壓化學氣相沉積反應器中選擇性鎢金屬沉積之影響
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- 資料識別：
- A01029183
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張國明 陳弘育 葉達勳
- 主題與關鍵字：
- 活性離子蝕刻 低壓化學氣相沉積反應器 選擇性鎢金屬沉積 RIE
- 描述：
- 來源期刊:化工技術
- 卷期:9:10=103 民90.10
- 頁次:頁222-232
- 日期：
- 20011000
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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