氮化鎵乾式蝕刻技術（ICP-RIE）之研究
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- 資料識別：
- A01026777
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張連璧(Chang， L. B.) 劉書史(Liu， S. S.)
- 主題與關鍵字：
- 乾式蝕刻 氮化鎵 感應耦合電漿 Dry etching GaN ICP
- 描述：
- 來源期刊:材料科學與工程
- 卷期:33:3 民90.09
- 頁次:頁136-142
- 日期：
- 20010900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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