The Effect of Ammonia Plasma Treatment on Low-k Methyl-Hybrido-Silsesquioxane (MHSQ) Against Photoresist Stripping Damage
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- 資料識別：
- A01021028
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張鼎張(Chang， T. C.) 蔡宗鳴(Tsai， T. M.) 莫亦先(Mor， Y. S.) 劉柏村(Liu， P. T.) 梅玉貞(Mei， Y. J.) 施敏(Sze， S. M.)
- 主題與關鍵字：
- 薄膜 氨電漿 低介電常數材料 光阻去除製程 HOSP
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:14:2 民90.07
- 頁次:頁19-26
- 日期：
- 20010700
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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