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使用非晶質(Amorphous)ITO中介層(Buffer Layer)以改善在塑膠基板上濺鍍ITO薄膜之品質
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資料識別:
A01019568
資料類型:
期刊論文
著作者:
鄭淵升 黃振昌 林宏彝
主題與關鍵字:
塑膠基板 銦錫氧化物 交流磁控濺鍍 Plastic substrate Indium tin oxide RF magnetron sputtering
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:221 民90.08
頁次:頁112-117
日期:
20010800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
鄭淵升 黃振昌 林宏彝(20010800)。[使用非晶質(Amorphous)ITO中介層(Buffer Layer)以改善在塑膠基板上濺鍍ITO薄膜之品質]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/61/6e/e4.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/61/6e/e4.html
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