以電子迴旋共振電漿化學氣相沉積法成長矽碳氮晶體薄膜之研究

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資料識別:
A01019239
資料類型:
期刊論文
著作者:
吳季珍 陳貴賢 林麗瓊
主題與關鍵字:
Silicon carbon nitride ECR plasma CVD H atom CH[feb0]NH[feaf] 電子迴旋共振電漿化學氣相沉積 矽碳氮晶體薄膜
描述:
來源期刊:化工
卷期:48:4=216 民90.08
頁次:頁1-10
日期:
20010800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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