Reduction of Ultra-pure Water Usage in Wafer Rinsing Process via Sequential Compensatory Strategies
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- 資料識別：
- A01001814
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 呂世源(Lu， Shih-yuan) 湯慧秀(Tong， Hway-show) 陳文章(Chen， Wen-chang) 劉大佼(Liu， Ta-jo)
- 主題與關鍵字：
- Reduction Ultra-pure water Wafer rinsing Semi-conductor 晶圓 洗滌程序 超純水
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
- 卷期:32:2 民90.03
- 頁次:頁117-124
- 日期：
- 20010300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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