下世代微影技術演進與現況
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- 資料識別：
- A11004287
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳維恕
- 主題與關鍵字：
- 微影技術 微縮 雙重圖案化 電子束直寫 奈米壓印 光源-光罩同時最佳化 Lithography technology Scaling Double patterning EBDW and nano-imprint Source-mask co-optimization
- 描述：
- 來源期刊:臺灣奈米會刊
- 卷期:23 2010.12[民99.12]
- 頁次:頁27-36
- 日期：
- 20101200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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