LCD用高濺鍍速率鋁靶開發
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- 資料識別：
- A11003741
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 洪胤庭(Hong， I. T.) 邱軍浩(Chiu， C. H.) 黃宏勝(Huang， H. S.) 謝榮淵(Hsieh， R. Y.)
- 主題與關鍵字：
- 高純度鋁靶 濺鍍速率 織構 顯微組織 High purity aluminum target Sputtering rate Texture Microstructure
- 描述：
- 來源期刊:鑛冶
- 卷期:54:4=212 2010.12[民99.12]
- 頁次:頁31-39
- 日期：
- 20101200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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