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高介電質柵級絕緣層氧化物Ga₂O₃(Gd₂O₃) 與高空穴遷移率Ge介面之電子結構研究
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後設資料
資料識別:
A11036837
資料類型:
期刊論文
主題與關鍵字:
高介電質柵級絕緣層氧化物 高空穴遷移率 電子結構
描述:
來源期刊:國家同步輻射研究中心簡訊
卷期:78 2011.09[民100.09]
頁次:頁12
日期:
20110900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
作者不詳(20110900)。[高介電質柵級絕緣層氧化物Ga₂O₃(Gd₂O₃) 與高空穴遷移率Ge介面之電子結構研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/5f/4a/ee.html(2024/09/16瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/5f/4a/ee.html
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