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奈米壓痕技術探討奈米薄膜之機械特性
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後設資料
資料識別:
A11034857
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳道星 涂勝龍 蘇彥勳 申永輝 方得華
主題與關鍵字:
超高真空離子束濺射 奈米壓痕技術 奈米薄膜 薄膜材料 奈米鈦薄膜 機械性質 電阻率 光學特性 UVIBS
描述:
來源期刊:臺灣奈米會刊
卷期:26 2011.09[民100.09]
頁次:頁21-26
日期:
20110900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳道星 涂勝龍 蘇彥勳 申永輝 方得華(20110900)。[奈米壓痕技術探討奈米薄膜之機械特性]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/5f/43/46.html(2024/09/16瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/5f/43/46.html
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