Particle Deposition on a 300 mm Wafer Moving in the Opposite Direction of the Airflow in a Uni-directional Cleanroom

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後設資料

資料識別:
A11029683
資料類型:
期刊論文
著作者:
Shih, Yang-cheng Hu, Shih-cheng Ku, Chen-wei Chein, Reiyu
主題與關鍵字:
Particle deposition velocity Dynamic simulation Computational fluid dynamics CFD
描述:
來源期刊:Aerosol and Air Quality Research
卷期:10:4 2010.08[民99.08]
頁次:頁316-322
日期:
20100800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

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管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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