電漿輔助原子層鍍膜設備電控系統介紹
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- 資料識別：
- A11022006
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 李昇亮
- 主題與關鍵字：
- 電漿輔助原子層鍍膜 前趨物 電漿 質流控制器 Plasma enhanced atomic layer deposition PEALD Precursor Plasma Mass flow controller MFC
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:338 2011.05[民100.05]
- 頁次:頁134-144
- 日期：
- 20110500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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