應用於3D-TSV製程技術之CMP設備簡介

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A11014366
資料類型:
期刊論文
著作者:
鍾武雄
主題與關鍵字:
矽導通孔 化學機械研磨 微機電系統 Through silicon via TSV Chemical mechanical polish CMP Micro electro mechanical systems MEMS
描述:
來源期刊:電子月刊
卷期:17:3=188 2011.03[民100.03]
頁次:頁136-143
日期:
20110300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

遮陰對十八種適用綠籬植物葉片壽命之影...
河洛文化與嶺南和廣府文化
「幽靈」與「朋友」:論晚期解構主義的...
Extraordinary Accu...
基因、主體與後人文社會規範
石化工業區廢水處理廠放流水與冷卻水回...