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退火溫度對氧化銦鎵鋅薄膜之特性研究
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資料識別:
A11013308
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳炳茂(Chen, Bing-mau) 黃安笛(Huang, An-di) 李宗澤(Li, Zong-ze) 吳明瑞(Wu, Ming-ruei) 鄒一德(Chou, Yi-teh) 鄧立峯(Teng, Li-feng) 劉柏村(Liu, Po-tsun)
主題與關鍵字:
氧化銦鎵鋅薄膜 直流濺鍍系統 退火溫度效應 X光薄膜繞射儀 原子力顯微鏡 IZGO DC sputtering system Annealing temperature effect X-ray diffraction Atomic force microcopy
描述:
來源期刊:明新學報
卷期:37:1 2011.02[民100.02]
頁次:頁67-76
日期:
20110200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳炳茂(Chen, Bing-mau) 黃安笛(Huang, An-di) 李宗澤(Li, Zong-ze) 吳明瑞(Wu, Ming-ruei) 鄒一德(Chou, Yi-teh) 鄧立峯(Teng, Li-feng) 劉柏村(Liu, Po-tsun)(20110200)。[退火溫度對氧化銦鎵鋅薄膜之特性研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/5e/e8/68.html(2017/03/27瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/5e/e8/68.html
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