矯正裝置經表面處理後金屬離子釋放及細菌生長貼付之影響比較

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資料識別:
A11013156
資料類型:
期刊論文
著作者:
董國龍(Tung, K. L.) 黃何雄(Huang, H. H.)
主題與關鍵字:
含鈦矯正線 電漿沉積式離子佈植 離子釋放 細菌 Titanium-containing orthodontic wire Plasma immersion ion implantation Ion release Bacteris
描述:
來源期刊:樹人學報
卷期:8 2010.07[民99.07]
頁次:頁135-144
日期:
20100700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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