薄膜化學機械拋光殘留應力分析
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A10041453
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 傅尉恩 陳炤彰 林彥德
- 主題與關鍵字：
- 薄膜材料 化學機械拋光 殘留應力 X-ray低掠角繞射法
- 描述：
- 來源期刊:微系統暨奈米科技協會會刊
- 卷期:22 2009.12[民98.12]
- 頁次:頁19-26
- 日期：
- 20091200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
