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以原子層沈積法製作高品質氧化鋅薄膜及其元件之應用
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資料識別:
A10041043
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳冠宇(Chen, Kuan-yu) 李欣縈(Lee, Hsin-ying) 李清庭(Lee, Ching-ting)
主題與關鍵字:
原子層沈積法 透明薄膜電晶體 氧化鋅 Atomic layer deposition Transparence thin film transistors ZnO
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:23:2 2010.06[民99.06]
頁次:頁50-55
日期:
20100600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳冠宇(Chen, Kuan-yu) 李欣縈(Lee, Hsin-ying) 李清庭(Lee, Ching-ting)(20100600)。[以原子層沈積法製作高品質氧化鋅薄膜及其元件之應用]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/56/08/a5.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/56/08/a5.html
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