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五環素沉積於有無氧電漿處理之氧化銦錫的歐姆接觸特性分析
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資料識別:
A10041033
資料類型:
期刊論文
著作者:
曾建洲(Zeng, Jian-jhou) 朱建安(Chu, Jian-an) 林祐仲(Lin, Yow-jon)
主題與關鍵字:
氧化銦錫 X光光電子能譜儀 界面 真空蒸鍍 Indium tin oxide X-ray photoelectron spectroscopy Interfaces Vacuum evaporation
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:23:2 2010.06[民99.06]
頁次:頁20-25
日期:
20100600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
曾建洲(Zeng, Jian-jhou) 朱建安(Chu, Jian-an) 林祐仲(Lin, Yow-jon)(20100600)。[五環素沉積於有無氧電漿處理之氧化銦錫的歐姆接觸特性分析]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/56/08/9b.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/56/08/9b.html
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