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Influence of pH and H₂O₂ Dosage on the Decomposition of Carbofuran during the Photo-Fenton Process
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後設資料
資料識別:
A10038759
資料類型:
期刊論文
著作者:
Lu, L. A. Ma, Y. S. Kumar, M. Lin, J. G.
主題與關鍵字:
Carbofuran Decomposition Mineralization Photo-Fenton process UV irradiation
描述:
來源期刊:Sustainable Environment Research
卷期:20:5 2010.09[民99.09]
頁次:頁293-297
日期:
20100900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
Lu, L. A. Ma, Y. S. Kumar, M. Lin, J. G.(20100900)。[Influence of pH and H₂O₂ Dosage on the Decomposition of Carbofuran during the Photo-Fenton Process]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/fc/02.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/fc/02.html
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