以純銅進行電解拋光平坦化之研究
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- 資料識別：
- A10032744
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 黃仁清(Huang， Jen-ching) 詹益峰(Chan， Yi- feng) 陳銘震(Chen， Ming-chen)
- 主題與關鍵字：
- 電解拋光 銅 平坦化 電解液 Electrolytic polishing Copper material Planarization Electrolyte
- 描述：
- 來源期刊:東南學報
- 卷期:35 2010.07[民99.07]
- 頁次:頁55-64
- 日期：
- 20100700
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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