退火氮化矽薄膜製備矽量子點
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- 資料識別：
- A10031777
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 黎沛伶 高騏 劉建惟 戴寶通
- 主題與關鍵字：
- 熱退火 矽量子點 氮化矽 Thermal annealing Silicon quantum dots Silicon nitride
- 描述：
- 來源期刊:奈米通訊
- 卷期:17:2 2010.06[民99.06]
- 頁次:頁42-46
- 日期：
- 20100600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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