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Enhanced Edge-Based Device Migration under Topology Constraints
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後設資料
資料識別:
A10030258
資料類型:
期刊論文
著作者:
Chuang, Ying-zhih Fu, De-shiun Li, Yih-lang
主題與關鍵字:
Layout migration Constraint graph Layout topology Layout compaction
描述:
來源期刊:International Journal of Electrical Engineering
卷期:16:6 2009.12[民98.12]
頁次:頁493-502
日期:
20091200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
Chuang, Ying-zhih Fu, De-shiun Li, Yih-lang(20091200)。[Enhanced Edge-Based Device Migration under Topology Constraints]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/db/a1.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/db/a1.html
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