漸變蝕刻技術應用於多孔矽光感測器之研究

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A10024369
資料類型:
期刊論文
著作者:
吳坤憲(Wu, Kuen-hsien) 黃峯偉(Huang, Feng-wei)
主題與關鍵字:
多孔矽 光感測器 漸變蝕刻 孔隙率 近紅外線 Porous silicon Photodetector Graded-etching Porosity Near infrared NIR
描述:
來源期刊:南臺科技大學學報
卷期:35:1 2010.05[民99.05]
頁次:頁61-70
日期:
20100500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

「探索亞洲」佛教造像精品介紹--印度...
撥號選接器監測與管理系統之發展
美學、民族誌與文學的文化功能:專訪嘉...
臺中港漁港暨濱海遊憩區植被變遷調查報...
咽喉異物感的探討
利用免疫細胞吞噬活性為快速篩檢平臺評...