氧氣氛與厚度對雷射鍍膜沉積之氧化鋅磊晶薄膜初始成長狀態之影響
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A10021112
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 林伯融(Lin， Po-rung) 傅于娟(Fu， Yu-chuan) 劉淑萍(Liu， Shu-ping) 武東星(Wu， Dong-sing) 洪瑞華(Horng， Ray-hua)
- 主題與關鍵字：
- 脈衝雷射沉積 氧化鋅 X光繞射 倒置空間圖 Pulsed laser deposition ZnO X-ray diffraction Reciprocal space mapping
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:23:1 2010.03[民99.03]
- 頁次:頁33-38
- 日期：
- 20100300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
