3nm Ta-C-N 阻障層特性與銅製程整合
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- 資料識別：
- A10021108
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳蓁慧(Chen， Chen-hui) 洪士育(Hong， Shi-yu) 邱敬富(Chiu， Chin-fu) 簡竹模(Chien， Chu-mo) 方昭訓(Fang， Jau-shiung)
- 主題與關鍵字：
- Ta-C-N 薄膜 鉭碳化合物 擴散阻障層 銅製程 Ta-C-N film TaC Diffusion barrier Copper metallization
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:23:1 2010.03[民99.03]
- 頁次:頁25-32
- 日期：
- 20100300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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