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快速熱退火氣氛對化學浴沉積製備ZnS薄膜之影響
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後設資料
資料識別:
A10021070
資料類型:
期刊論文
著作者:
巫文全(Wu, Warren) 王文軒(Wong, Rex) 駱榮富(Louh, R. F.)
主題與關鍵字:
化學浴沉積法 硫化鋅薄膜 快速熱退火 太陽能電池 Chemical bath deposition CBD Zinc sulfite thin film Atmosphere Rapid thermal annealing Solar cell Buffer layer
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:19:4 2007.04[民96.04]
頁次:頁30-34
日期:
20070400
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
巫文全(Wu, Warren) 王文軒(Wong, Rex) 駱榮富(Louh, R. F.)(20070400)。[快速熱退火氣氛對化學浴沉積製備ZnS薄膜之影響]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b4/c4.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b4/c4.html
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