創新性無電鍍沉積超薄鈷基阻障層在銅金屬化之應用

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資料識別:
A10020878
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳松德 唐英森 李健志 陳錦山
主題與關鍵字:
無電鍍晶種 阻障層 銅金屬化 Co-B Co-W-B
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:19:2 民95.11
頁次:頁147-152
日期:
20061100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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