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偏壓輔助磁控濺鍍共沉積銅錫介金屬薄膜負極材料及電化學特性之研究
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後設資料
資料識別:
A10020852
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳威佑 邱國峰 林昆明 林新智
主題與關鍵字:
磁控濺鍍共沉積法 臨場負偏壓 Cu₆Sn₅
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:19:2 民95.11
頁次:頁60-64
日期:
20061100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳威佑 邱國峰 林昆明 林新智(20061100)。[偏壓輔助磁控濺鍍共沉積銅錫介金屬薄膜負極材料及電化學特性之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/f5.html(2017/03/25瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/f5.html
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