偏壓輔助磁控濺鍍共沉積銅錫介金屬薄膜負極材料及電化學特性之研究
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- 資料識別：
- A10020852
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳威佑 邱國峰 林昆明 林新智
- 主題與關鍵字：
- 磁控濺鍍共沉積法 臨場負偏壓 Cu₆Sn₅
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:19:2 民95.11
- 頁次:頁60-64
- 日期：
- 20061100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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