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Rapid Thermal Annealing of Ta-N Thin Films and Its Effects on Phase Transition and Electrical Behaviors
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後設資料
資料識別:
A10020849
資料類型:
期刊論文
著作者:
Hsieh, J. H. Wang, C. M. Yeh, Hsien-chi
主題與關鍵字:
Ta-N thin films Rapid thermal annealing Resistivity Temperature coefficient of resistivity Microstructure
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:19:2 民95.11
頁次:頁54-59
日期:
20061100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
Hsieh, J. H. Wang, C. M. Yeh, Hsien-chi(20061100)。[Rapid Thermal Annealing of Ta-N Thin Films and Its Effects on Phase Transition and Electrical Behaviors]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/f3.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/f3.html
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