Electrical Characteristic and Microstructure of Ternary Alloy Ta□ Co□ N□ Thin Films Deposited by Reactive Sputtering

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資料識別:
A10020834
資料類型:
期刊論文
著作者:
方昭訓(Fang, J. S.) 柯銘禮(Ker, M. L.) 陳慧津(Chen, H. C.)
主題與關鍵字:
Ta-Co-N films Sputtering deposition Amorphous Diffusion barrier
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:19:2 民95.11
頁次:頁19-23
日期:
20061100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

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管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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