Electrical Characteristic and Microstructure of Ternary Alloy Ta□ Co□ N□ Thin Films Deposited by Reactive Sputtering
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- 資料識別：
- A10020834
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 方昭訓(Fang， J. S.) 柯銘禮(Ker， M. L.) 陳慧津(Chen， H. C.)
- 主題與關鍵字：
- Ta-Co-N films Sputtering deposition Amorphous Diffusion barrier
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:19:2 民95.11
- 頁次:頁19-23
- 日期：
- 20061100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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