非晶質Ta-Ni薄膜製備與銅金屬化製程整合
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- 資料識別：
- A10020832
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 方昭訓 丘坤安 高任遠
- 主題與關鍵字：
- Ta-Ni films Sputtering deposition Amorphous Diffusion barrier 非晶質Ta-Ni薄膜 銅金屬化 半導體工業
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:19:2 民95.11
- 頁次:頁13-18
- 日期：
- 20061100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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