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新鍍膜技術--高功率脈衝磁控濺射之介紹及研發
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後設資料
資料識別:
A10020660
資料類型:
期刊論文
著作者:
吳錦裕(Wu, Jin-yu) 梁文龍(Liung, Wen-lung) 艾啟峰(Ai, Chi-fong)
主題與關鍵字:
高功率脈衝磁控濺射 高功率脈衝電源 電漿鍍膜 附著力 HIPIMS High power impulse power supply Plasma coating Adhesion
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:22:4 2009.12[民98.12]
頁次:頁24-33
日期:
20091200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
吳錦裕(Wu, Jin-yu) 梁文龍(Liung, Wen-lung) 艾啟峰(Ai, Chi-fong)(20091200)。[新鍍膜技術--高功率脈衝磁控濺射之介紹及研發]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/3d.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/3d.html
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