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高介電係數金屬氧化物閘介電層在液晶薄膜電晶體之應用
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後設資料
資料識別:
A10020648
資料類型:
期刊論文
著作者:
鄭錦隆(Cheng, Chin-lung)
主題與關鍵字:
液晶薄膜電晶體 閘介電層 TFT-LCD
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:18:4 民95.02
頁次:頁44-51
日期:
20060200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
鄭錦隆(Cheng, Chin-lung)(20060200)。[高介電係數金屬氧化物閘介電層在液晶薄膜電晶體之應用]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/31.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b3/31.html
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