A Low Leakage Current in SiGe Hetro-junction FET Using by ICP Dry Etching Process

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資料識別:
A10020483
資料類型:
期刊論文
著作者:
李軍鑫(Lee, Chun-hsin) 吳三連(Wu, San-lein) 羅培倫(Lo, Pei-lun) 張守進(Chang, Shoou-jinn) 林育名(Lin, Yu-min) 王子睿(Wang, Tzu-juei)
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:18:3 民94.12
頁次:頁37-41
日期:
20051200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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