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沉積氣氛與穩定化熱處理對超高真空磁控濺鍍氧化鎢薄膜相轉變的影響
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後設資料
資料識別:
A10020442
資料類型:
期刊論文
著作者:
廖文祿 蘇偉釧 游冠霖 林中魁 陳錦山
主題與關鍵字:
磁控濺鍍 相轉變 β-W WO2 WO3
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:18:2 民94.08
頁次:頁15-23
日期:
20050800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
廖文祿 蘇偉釧 游冠霖 林中魁 陳錦山(20050800)。[沉積氣氛與穩定化熱處理對超高真空磁控濺鍍氧化鎢薄膜相轉變的影響]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/65.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/65.html
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