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光釋放能譜臨場監控反應性濺鍍超親水氧化鈦薄膜之特性分析
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後設資料
資料識別:
A10020427
資料類型:
期刊論文
著作者:
李健志 魏敏芝 牛寰 陳錦山
主題與關鍵字:
超高真空磁控濺鍍 二氧化鈦 一氧化鈦 光學釋放能譜分析儀 金紅石 銳鈦礦 X光繞射 拉塞福背向散射能譜術 光誘發超親水性
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:20:1 2007.10[民96.10]
頁次:頁36-43
日期:
20071000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
李健志 魏敏芝 牛寰 陳錦山(20071000)。[光釋放能譜臨場監控反應性濺鍍超親水氧化鈦薄膜之特性分析]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/56.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/56.html
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