光釋放能譜臨場監控反應性濺鍍超親水氧化鈦薄膜之特性分析

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資料識別:
A10020427
資料類型:
期刊論文
著作者:
李健志 魏敏芝 牛寰 陳錦山
主題與關鍵字:
超高真空磁控濺鍍 二氧化鈦 一氧化鈦 光學釋放能譜分析儀 金紅石 銳鈦礦 X光繞射 拉塞福背向散射能譜術 光誘發超親水性
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:20:1 2007.10[民96.10]
頁次:頁36-43
日期:
20071000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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